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            NMP-4000 Microwave PECVD氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

            更新時(shí)間:2025-03-31   點(diǎn)擊次數(shù):1008次

            NMP-4000 微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(下載宣傳冊(cè))

            NMP-4000 用于沉積單晶金剛石

            NMP-4000 微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(下載宣傳冊(cè))

            NMP-4000 用于沉積單晶金剛石

            結(jié)果表明,在表面存在一層具有強(qiáng)熒光特性的物質(zhì),這意味著成功實(shí)現(xiàn)了氮摻雜層的形成。

            NANO-MASTER NMP-4000 是一款獨(dú)立式的微波等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(CVD)系統(tǒng),適用于多種應(yīng)用領(lǐng)域,用于沉積高質(zhì)量的 CVD 單晶和多晶金剛石。該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于運(yùn)行長(zhǎng)時(shí)間的生產(chǎn)流程,具有高可靠性和高重復(fù)性。它符合 CE 和 SEMI 標(biāo)準(zhǔn),能夠處理最大直徑為 4 英寸的晶圓。該系統(tǒng)通過(guò) LabVIEW 軟件進(jìn)行 PC 控制,具備三級(jí)密碼控制的用戶授權(quán)和觸摸屏顯示器功能。該系統(tǒng) 自動(dòng)化且安全聯(lián)鎖,基于配方驅(qū)動(dòng),配有狀態(tài)指示器、圖形和字母數(shù)字顯示。

            NMP-4000 系統(tǒng)包括:

            SIMS(二次離子質(zhì)譜)結(jié)果證實(shí)了在一顆鉆石上存在兩層氮摻雜層。

            腔室:14 英寸不銹鋼立方體腔室,配有 8 英寸門和 5 英寸窗,安裝在不銹鋼基板上,打開前門即可方便地接近壓盤,腔室壁易于清潔。通過(guò)安裝在腔室右側(cè)下方的自動(dòng)裝卸裝置裝卸晶圓。腔室由位于加熱壓盤上方的二次鐘罩腔室組成,帶有 5 英寸帶遮光簾的微波屏蔽前置視窗(MW 屏蔽前置視窗)以及帶有 10 英寸法蘭的手動(dòng)裝卸門(8 英寸門)。帶有遮光簾的前置視窗(5 英寸)帶有微波屏蔽裝置。

            微波等離子體源(4 種不同類型的等離子體源):2.45GHz 頻率,6 千瓦微波源,配有手動(dòng)調(diào)諧器和耦合器。在從低功率密度到高功率密度的整個(gè)過(guò)程中,等離子體極其穩(wěn)定。

            4 英寸晶圓的自動(dòng)裝載與卸載:鎖存裝置、氣動(dòng)隔離門、機(jī)械泵和壓力計(jì)。泵至毫托爾范圍,將壓下臺(tái)面的晶圓載具通過(guò)氣動(dòng)三柱塞加載,然后將壓臺(tái)面升起并密封在鐘罩內(nèi)。

            壓臺(tái)面:4 英寸鉬質(zhì)頂部,電阻加熱至最高溫度 1000°C,還配有微波等離子體。壓臺(tái)面安裝在不銹鋼波紋管上,并通過(guò)步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)。將提供用于處理小樣品的載具。

            MFC(質(zhì)量流量控制器):六臺(tái) MFC(CH4、H2、Ar、三種 N2)的質(zhì)量流量控制器,配有不銹鋼氣體管和氣動(dòng)截止閥。這些 MFC 為輸送載氣或反應(yīng)氣體提供精確的流量控制和監(jiān)測(cè)。在 MFC 出口處放置氣動(dòng)高真空截止閥,以便用戶在工藝過(guò)程中控制氣體選擇。用戶可通過(guò)主系統(tǒng)控制軟件訪問(wèn) MFC 和閥門。通往腔室的所有氣體管路均采用不銹鋼制成,帶有超清潔的軌道焊接 VCR 接頭。

            氣泡器:用于三甲基硼酸酯的 150cc 氣泡器,帶有加熱的氣體管路。儀表:寬量程壓力計(jì) - 該系統(tǒng)背景壓力的測(cè)量采用的是愛(ài)德華茲 WRG-D(寬量程壓力計(jì)),其能夠涵蓋從大氣壓到 10-9 帕的壓強(qiáng)范圍。該壓力計(jì)通過(guò)一個(gè) 90 度彎頭安裝在底板下方,以減少沉積并提高壓力計(jì)的可靠性。皮拉尼 - 愛(ài)德華茲 APGX 有源線性對(duì)流壓力計(jì)。為了在工藝過(guò)程中監(jiān)測(cè)工藝壓力,使用了線性對(duì)流壓力計(jì)。它安裝在底板上,能夠在工藝過(guò)程中監(jiān)測(cè)壓力,且對(duì)工藝條件的敏感度低于寬量程壓力計(jì)。

            高溫計(jì):雙波長(zhǎng)高溫計(jì)用于測(cè)量晶圓溫度。

            泵:渦輪分子泵 - 法佩克 ATH 500 MT,磁懸浮,耐腐蝕且加熱。渦輪泵通過(guò) ALD 過(guò)濾器外殼安裝在系統(tǒng)底板下方。ATH 500 MT 的氮?dú)獬闅饽芰?500 升/秒,并通過(guò)主系統(tǒng)控制軟件進(jìn)行控制。


            北京志鴻恒拓科技有限公司

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